Une machine à consommation électrique réduite pour fabriquer des semi-conducteurs à nœuds de 5 nm
Prospectif : Canon est réputé pour ses imprimantes, appareils photo et autres produits d’imagerie conçus pour un usage grand public et industriel. La société japonaise met désormais à profit ses connaissances approfondies en matière de technologies d’optique et d’imagerie pour se lancer dans le domaine hautement spécialisé des équipements avancés de fabrication de puces.
Canon a récemment présenté le FPA-1200NZ2C, un équipement de « fabrication de semi-conducteurs à nano-impression » spécialement conçu pour produire des micropuces et d’autres composants à base de semi-conducteurs à l’aide des derniers nœuds de fabrication disponibles. La solution de Canon pour la fabrication de puces semble offrir des capacités similaires à celles de ses concurrents, mais avec une consommation d’énergie nettement inférieure, grâce à son utilisation de la technologie de nano-impression.
Contrairement aux systèmes de photolithographie traditionnels, la lithographie par nanoimpression (NIL) ne repose pas sur un mécanisme optique pour transférer un motif de circuit sur la tranche recouverte de résine. Les machines NIL de Canon obtiennent le même résultat en pressant un masque imprimé du motif de circuit sur la réserve de la tranche, agissant essentiellement comme un tampon, comme décrit par la société.
Le FPA-1200NZ2C peut gérer des charges de travail de modélisation avec une largeur de ligne minimale de 14 nm, une capacité qui, selon Canon, est comparable au nœud de fabrication de 5 nm nécessaire pour produire les « semi-conducteurs logiques les plus avancés d’aujourd’hui ». Canon prévoit que, grâce aux améliorations continues de la technologie des masques, la technique NIL est sur le point d’atteindre une largeur de ligne minimale de 10 nm (équivalent à un nœud de 2 nm).
Le nouvel appareil FPA-1200NZ2C est également équipé d’une technologie innovante de contrôle environnemental conçue pour minimiser la contamination par les particules fines. Puisqu’elle ne nécessite pas de source de lumière « spéciale » comme les machines de lithographie à ultraviolets extrêmes (EUV), la solution NIL de Canon est particulièrement économe en énergie et peut réduire considérablement la consommation d’énergie, contribuant ainsi à la réduction des émissions de CO2.
Le FPA-1200NZ2C est capable de fabriquer des circuits semi-conducteurs complexes avec un nombre croissant de couches sans défauts, grâce à la technologie de contrôle des particules fines susmentionnée. Canon déclare que ces machines peuvent être utilisées pour un large éventail d’applications, y compris les lentilles métalliques pour les dispositifs de réalité étendue (XR) avec des microstructures de l’ordre de plusieurs dizaines de nanomètres, ainsi que les circuits logiques des processeurs et divers autres dispositifs à semi-conducteurs.
La lithographie par nanoimpression est une technique qui existe depuis plus de 20 ans, comme l’a noté Pranay Kotasthane, président de l’institution Takshashila, dans une interview à CNBC. Cependant, la technologie n’a pas réussi à gagner du terrain, principalement parce que les machines à ultraviolets extrêmes (EUV) produites par la société néerlandaise ASML ont fourni des résultats supérieurs pour des produits à puces très sophistiqués. Canon, qui développe sa technologie NIL depuis 2004, mise désormais sur l’idée que cette solution « moins chère » est « assez bonne » pour produire de manière indépendante des puces avancées.